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描述:X光鍍層測(cè)厚儀,熒光膜厚儀具有更好的性能和便宜的價(jià)格,藝慈儀器是國產(chǎn)XRF的制造。在金屬鍍層檢測(cè)行業(yè),*50%。
廠商性質(zhì)
經(jīng)銷商更新時(shí)間
2024-04-27訪問量
1250品牌 | 其他品牌 | 行業(yè)專用類型 | 通用 |
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價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 儀器種類 | 臺(tái)式/落地式 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,印刷包裝 |
XAU光譜分析儀是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),是一款一機(jī)多用型光譜儀。
應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了專用測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及成分分析。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):
微小樣品檢測(cè):最小測(cè)量面積0.03mm2(加長測(cè)量時(shí)間可小至0.01mm2)
變焦裝置算法:可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm
自主研發(fā)的EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元素,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量
*解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限
高性能探測(cè)器:SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測(cè)器
光路系統(tǒng):微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦、光路交換裝置
應(yīng)用領(lǐng)域:
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航天航空、環(huán)保行業(yè)、汽車行業(yè)、貴金屬檢測(cè)、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領(lǐng)域
多元迭代EFP核心算法(ZL號(hào):2017SR567637)
專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。
國產(chǎn)X射線熒光鍍層測(cè)厚儀為什么好快速:1分鐘就可以測(cè)定樣品鍍層的厚度,并達(dá)到測(cè)量精度要求。
方便:X熒光光譜儀部分機(jī)型采用進(jìn)口國際上的電制冷半導(dǎo)體探測(cè)器,能量分辨率更優(yōu)于135eV,測(cè)試精度更高。并且不用液氮制冷,不用定期補(bǔ)充液氮,操作使用更加方便,并且運(yùn)行成本比同類的其他產(chǎn)品更低。
無損:測(cè)試前后,樣品無任何形式的變化。
直觀:實(shí)時(shí)譜圖,可直觀顯示元素含量。
測(cè)試范圍廣:X熒光光譜儀,是一種物理分析方法,其分析與樣品的化學(xué)結(jié)合狀態(tài)無關(guān)。對(duì)在化學(xué)性質(zhì)上屬同一族的元素也能進(jìn)行分析,抽真空可以測(cè)試從Na到U。
可靠性高:由于測(cè)試過程無人為因素干擾,儀器自身分析精度、重復(fù)性與穩(wěn)定性很高。所以,其測(cè)量的可靠性更高。
滿足不同需求:測(cè)試軟件為WINDOWS操作系統(tǒng)軟件,操作方便、功能強(qiáng)大,軟件可監(jiān)控儀器狀態(tài),設(shè)定儀器參數(shù),并就有多種*分析方法,工作曲線制作方法靈活多樣,方便滿足不同客戶不同樣品的測(cè)試需要。
性價(jià)比高:相比化學(xué)分析類儀器,X熒光光譜儀在總體使用成本上有優(yōu)勢(shì)的,可以讓更多的企業(yè)和接受。
簡(jiǎn)易:對(duì)人員技術(shù)要求較低,操作簡(jiǎn)單方便,并且維護(hù)簡(jiǎn)單方便。
技術(shù)指標(biāo)
元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)中間的任意金屬鍍層
一次可同時(shí)分析多達(dá)五層鍍層
*薄可測(cè)試0.005μm
分析含量一般為2ppm到99.9%
鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型
相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型
多變量非線性回收程序
長期工作穩(wěn)定性高
工作環(huán)境:
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源
儀器尺寸:576(W) x 495 (D) x 545(H) mm
重量:90 kg
檢測(cè)實(shí)例
鍍鎳器件是比較常見的電鍍器件,其鎳鍍層在保護(hù)銅基體免受氧化同時(shí)還能起到美觀的作用。這里以測(cè)試客戶的一件銅鍍鎳樣品為例說明此款儀器的測(cè)試效果
產(chǎn)品分類
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